ٽانٽيل شيٽ
-
Tantalum Sputtering Target - Disc
Tantalum sputtering ٽارگيٽ بنيادي طور semiconductor صنعت ۽ نظريي ڪوٽنگ صنعت ۾ لاڳو ڪيو ويندو آهي.اسان ٽينٽيلم اسپٽرنگ هدفن جون مختلف وضاحتون تيار ڪندا آهيون گراهڪن جي درخواست تي سيمي ڪنڊڪٽر انڊسٽري ۽ آپٽيڪل انڊسٽري جي ويڪيوم اي بي فرنس سملٽنگ طريقي ذريعي.منفرد رولنگ جي عمل کان محتاط، پيچيده علاج ۽ صحيح اينيلنگ جي درجه حرارت ۽ وقت جي ذريعي، اسان ٽينٽيلم اسپٽرنگ ٽارگيٽ جي مختلف طول و عرض پيدا ڪندا آهيون جهڙوڪ ڊسڪ ٽارگيٽ، مستطيل هدف ۽ روٽري هدف.ان کان علاوه، اسان ضمانت ڏيون ٿا ته ٽينٽلم پاڪائي 99.95٪ کان 99.99٪ يا وڌيڪ جي وچ ۾ آهي.اناج جي ماپ 100um هيٺ آهي، لوڻ 0.2mm هيٺ آهي ۽ سطح
-
ٽينٽالم شيٽ (Ta)99.95%-99.99%
Tantalum (Ta) شيٽون tantalum ingots مان ٺهيل آهن. اسان ٽينٽيلم (ٽي) شيٽ جا عالمي سپلائر آهيون ۽ اسان ڪسٽمائيز ٽينٽلم پروڊڪٽس مهيا ڪري سگهون ٿا.ٽينٽالم (Ta) شيٽ کي کولڊ ورڪنگ پروسيس ذريعي تيار ڪيو ويندو آهي، گهربل سائيز حاصل ڪرڻ لاءِ فورجنگ، رولنگ، سويجنگ ۽ ڊرائنگ ذريعي.
